Széles körben alkalmazzák a kettőstörés vizsgálatát – elsősorban polarizációs spektroszkópiai módszerekkel – a kristálytanban, folyadékkristályok és más intelligens anyagok szerkezet-vizsgálatában ill. általában anyagszerkezeti kutatásokban és minőségellenőrző vizsgálatokban, de kiterjedten használják különböző biológiai minták anizotróp molekuláris szerkezetének feltárására és az orvosi diagnosztika számos területén is.

A kettőstörés ill. az annak következtében fellépő fázistolás mérésére makroszkópos mintákon számos eljárás született. A kettőstörés jelenléte mikroszkópikus mintákon „hagyományos” polarizációs mikroszkópokban lehetséges. A modernebb lézersugárpásztázó mikroszkópokra (LSM­kre) is több eljárás ismert. A kereskedelmi forgalomban kapható berendezések lényegében a polarizációs mikroszkópokban alkalmazott leképezési eljárást, keresztezett polárszűrőket, használnak. Ily modon azonban a kettőstörésről csak kvalitatív adatok kaphatók, és ez az eljárás nem használja ki az LSM­k legfontosabb előnyös tulajdonságát, a képpontonkénti digitális adatrögzítést. Lényegesen pontosabb és gyorsabb eljárást válik lehetővé fotoelasztikus modulátorok és demodulációs berendezések használatával. Jelenleg két ilyen eljárásás ill. berendezés ismert. Jóllehet ezekkel a kettőstörés lokális értékei nagy pontossággal meghatározhatók, a mérési eljárás nem terjedt el. Ennek egyik oka vélhetőleg a kiegészítő berendezés viszonylagosan magas ára és az eljárás viszonylagos bonyolultsága. Ezeket a hátrányos tulajdonságokat küszöböli ki az általunk javasolt eljárás és berendezés: a kettőstörés mikroszkópos meghatározásának új módszere, melynek során egy nyalábtágító beiktatásával, az áteresztett fény mérésére szolgáló detektor lecserélésével többcsatornás (kvadráns) detektorral, amelyet különböző passzív polarizációs elemekkel egészítünk ki; a kettőstörés irányát és nagyságát képpontonként számítógépes jelfeldolgozást követően határozhatjuk meg.